TSMC با نمایش دستاوردهایش برای صنعت تراشه خط‌و‌نشان کشید + جدید

0 55

TSMC با نمایش دستاوردهایش برای صنعت تراشه خط‌و‌نشان کشید + جدید

N3P، یکی از نسخه‌های پیشرفته‌ی لیتوگرافی سه‌نانومتری، در سال ۲۰۲۴ وارد خط‌تولید می‌شود و قدرت پردازشی را ۵ درصد افزایش و مصرف انرژی را ۵ تا ۱۰ درصد کاهش می‌دهد و تراکم تراشه‌های مبتنی‌بر N3P درحدود ۱٫۰۴ برابر بیشتر از N3E خواهد بود.

به‌دلیل افزایش شدید تقاضای صنعت خودرو، TSMC قصد دارد لیتوگرافی N3AE را نیز در‌دسترس قرار دهد. N3AE مبتنی‌بر N3 است و به‌طور ویژه برای پردازش‌های خودرو بهینه شده.

شرکت تایوانی TSMC در سال ۲۰۲۵ سراغ لیتوگرافی موردانتظار دو‌نانومتری می‌رود. TSMC در این لیتوگرافی از فناوری نانوصفحه استفاده و با ترانزیستورهای FinFET خداحافظی می‌کند.

N2 درمقایسه‌با N3E به‌میزان ۱۰ تا ۱۵ درصد قدرت پردازشی را افزایش و ۲۵ تا ۳۰ درصد مصرف انرژی را کاهش می‌دهد. تراشه‌های مبتنی‌بر N2 تقریباً ۱٫۱۵ برابر تراکم ترانزیستور بیشتر خواهند داشت.



Source link

Leave A Reply

Your email address will not be published.